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  • 离子束刻蚀/反应离子束刻蚀
    ¥588

    离子束刻蚀/反应离子束刻蚀

    离子束刻蚀是在真空中利用离子源产生的带有一定能量的准直离子束进行刻蚀,可以刻蚀几乎已知的任何材料;

  • 反应离子刻蚀(RIE)
    ¥1898

    反应离子刻蚀(RIE)

    反应离子刻蚀(RIE)是一种操作简单、经济实惠的通用等离子体刻蚀解决方案;

  • 感应耦合等离子刻蚀(ICP)
    ¥898

    感应耦合等离子刻蚀(ICP)

    ICP刻蚀是一种效率更高、功能更强大的先进加工技术,旨在实现高刻蚀率、高选择性和低损伤的刻蚀加工;

  • 等离子增强化学气相沉积(PECVD)
    ¥1898

    等离子增强化学气相沉积(PECVD)

    等离子体增强化学气相沉积技术是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质重新发生化学反应,从而实现目标薄膜材料生长的一种薄膜制备技术。

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极智芯(北京)科技有限公司(以下简称“极智芯”)成立于2018年6月,致力于半导体行业真空设备研发、集成、生产与销售,为半导体、新能源、新材料等领域提供解决方案。


主营产品种类包括:反应离子刻蚀(RIE)、离子束刻蚀系统(IBE)、反应离子束刻蚀系统(RIBE)、感应耦合等离子刻蚀(ICP)、双离子束溅射沉积(IBD)、磁控溅射、等离子增强化学气相沉积(PECVD)、真空蒸发镀膜系统、环模设备、真空排汽台等。


目前,已有百余台设备进入了航天系统、中电科、中科院和国内一流大学等多家科研院所与制造单位,这些成套设备及工艺研究成果主要用于多学科多领域的基础、前沿课题跟踪研究和应用研发,而且特别突出为国家重大型号任务服务。



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